化學拋光方式
化學拋光
化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表面粗糙度一般為數 10μ m 。
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拋光加工介紹PART4-化學拋光方式
九月 26, 2014 by Willy Chen
Category 技術資料, 拋光研磨 | Tags: 切削,拋光,機械拋光MCP,研磨,磨具,磨料,磨粒,磨輪,表面粗糙度,超精加工,超精研拋 | No Comments
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拋光加工介紹PART3-固定磨粒方式
八月 29, 2014 by Willy Chen
Category 再研磨技術, 技術資料, 拋光研磨, 拋光研磨微粉, 拋光研磨膜&拋光研磨帶, 研磨拋光液, 磨料 | Tags: 切削,拋光,機械拋光MCP,研磨,磨具,磨料,磨粒,磨輪,表面粗糙度,超精加工,超精研拋 | No Comments
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拋光加工介紹PART2–游離磨粒方式
八月 1, 2014 by Willy Chen
游離磨粒方式拋光加工
機械拋光
在游離磨粒方式中，為最普遍且基本的研磨方法，機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，可使用轉檯等輔助工具，表面品質要求高的可採用超精研拋的方法。 繼續閱讀 »
Category 再研磨技術, 技術資料, 拋光研磨, 拋光研磨微粉, 拋光研磨膜&拋光研磨帶, 材料, 機械工具, 研磨拋光液, 磨料 | Tags: 切削,化學腐蝕,拋光,機械拋光,游離磨粒,研磨,磨具,磨料,表面粗糙度,超精研拋 | No Comments
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超精密研磨拋光技術
八月 16, 2012 by Willy Chen
超精密加工是指加工誤差小於0.01μm、表面粗糙度小於Ra0.02μm 的加工，又稱之為亞微米級加工。現在，超精密加工已進入納米級，稱之為納米加工。用於製造高精度高表面品質的零件，如大型積體電路的矽片，不僅要求極高的平面度，極小的表面粗糙度，而且要求表面無變質層、無劃傷。光學平晶、量塊、石英振子基片平面，除要求極高平面度、極小表面粗糙度外，還要求兩端面嚴格平行。
Category 再研磨技術, 拋光研磨, 拋光研磨微粉, 拋光研磨膜&拋光研磨帶, 研磨拋光液, 磨料 | Tags: 拋光,研磨,磨粒,表面粗糙,超精密加工 | No Comments
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曲軸拋光研磨加工
八月 3, 2012 by Willy Chen
曲軸在發動機內是一個高速旋轉的長軸，其受力條件相當複雜，除了旋轉品質的離心力外，還承受 週期性變化的氣體壓力和往復慣性力的共同作用，為保證工作穩定性，曲軸必須要有足夠的強度和剛度，各工作表面要耐 磨而且潤滑良好。
Category PCD鑽石, 再研磨技術, 單晶鑽石, 技術資料, 拋光研磨, 拋光研磨膜&拋光研磨帶, 材料, 磨料 | Tags: 切削,拋光,曲軸,砂帶,研磨,磨削,表面 | No Comments
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研磨與拋光介紹
七月 19, 2012 by Willy Chen
研磨拋光(Polishing or Lapping)是使工件產生平滑鏡面的超精密研磨技術，其目的在於使表面粗糙度及平坦度到達一定的可容許範圍，常被廣泛的使用在硬脆金屬、陶瓷、玻璃及 晶圓等材料表面的精密加工。
Category PCD鑽石, 再研磨技術, 單晶鑽石, 技術資料, 拋光研磨, 材料, 磨料, 聚晶鑽石 | Tags: 拋光,研磨,磨粒,表面粗糙,超精密,鏡面 | No Comments
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金屬鏡面加工 – part1除材料方式
五月 10, 2012 by Willy Chen
無論用何種金屬加工方法加工，在零件表面總會留下微細的凸凹不平的刀痕，出現交錯起伏的峰穀現象，粗加工後的表面用肉眼就能看到，精加工後的表面用放大鏡 或顯微鏡仍能觀察到。這就是零件加工後的表面粗糙度，過去稱為表面光潔度。鏡面加工一般是工件表面粗糙度<0.8um的表面時，稱為鏡面加工。
Category CNC加工, PCD鑽石, 刀具, 刀具加工, 切削刀具, 單晶鑽石, 技術資料, 拋光研磨, 材料, 聚晶鑽石, 鑽石刀具 | Tags: 刀具,切削,單晶鑽石刀具,拋光,研磨,表面粗糙度,鏡面加工,鑽石刀具 | No Comments
